氧化铝废渣赤泥高剪切胶体磨，含硫氧化铁粉碎机

氧化铝废渣赤泥高剪切胶体磨，拜尔法赤泥在线式研磨机，含硫氧化铁粉碎机，管线式高剪切胶体磨，在线式高速研磨机，串联法高剪切胶体磨，我们将多级变跟为，然后在分散盘上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过分散盘将物料分散乳化均质开来。

   串联法烧结方法及系统，包括：将拜尔法赤泥按预设的比例调制成生料浆；将所述生料浆按设定的烧制程序烧制成熟料；将所述熟料进行溶出沉降处理，得到目标溶液；根据所述目标溶液得到目标物。直接以拜尔法生产系统的拜尔法赤泥为原料，可以经过IKN高剪切管线式胶体磨制得的拜尔法赤泥粒度细，既降低了料浆磨制的能耗和研磨体消耗，又提高料浆温度而降低熟料烧结煤耗。

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Ikn胶体磨（锥体磨，粉碎机，研磨机）由电动机、连接体、磨头等组成，磨盘采用不锈钢锻压制成，磨盘表面有三个以上沟槽，分为三级。每的沟槽刀齿数量、方向及宽度不同，越是向外延伸，磨片精度越高、齿距越小、线速度越长、物料越磨越细、刀齿的数量越多、剪切面越大、线速度越长、流体速度越快、细化效果越好。机械密封分：硬质内装机械密封、外装双面硬质机械密封、金属波纹硬质机械密封等三种密封可选。磨盘刀齿根据需要可以进行特殊氮化处理，增强刀齿的硬度，起到更耐磨、耐腐蚀的作用。转磨与定磨可根据物料粘度、产量、颗粒细度进行手工调节，其功效为剪切率大、线速度长、无死角、处理量大、均质细化效果好。

上海依肯高速高剪胶体磨的特点:

1、粉碎室设有三道磨碎区，为粗磨碎区，二级为细磨碎区，三层为超微磨碎区，通过调整定、转子的间隙，能有效地达到所需的超微粉碎效果（也可循环加工）。

2、间隙可调，研磨缝隙调节可以改变适用于特定工艺

3、设备运转速度高达14000转，是国内普通胶体磨的4-5倍，细化分散研磨物料

4、机身腔体采用三层夹套设计可以冷却也可以加热

5、采用德国双端面机械密封，在有冷却水的情况下，可以24小时连续不间断工作

6、从实验室设备平稳过渡到中试型实验以及后期的工业化放大实验，无需重新调整实验数据，程度降低了风险

高剪切胶体磨设备的有好有坏，那么如何去判定一台胶体磨设备呢？

一、高剪切胶体磨的转速，机械设备能力的体现很大一部分取决于设备的转速，也就是通常所说的剪切力。目前国内大多数胶体磨的转速都为3000rpm（如廊坊、温州、南通等），而上海依肯的高剪胶体磨转速可达14000rpm。

二、磨头结构，相同的转速下如何去比较胶体磨的处理效果，我们可以去判定均质机的磨头结构，磨头的精密度越高对于物料的研磨能力就会越强。

三、机械密封，机械密封的选择决定的设备的稳定性和使用寿命，好的机械密封可确保设备24小时连续运行，而差的可能只能运行30min就需要停机。

当然影响高剪切胶体磨设备效果的因素还有很多，但主要的核xin就是以上的三点。

上海IKN胶体磨（锥体磨，粉碎机，研磨机）与普通胶体磨的分析：

①转速：

普通设备：目前是不通过变频器来调节，若通过变频调节，他们的轴承不能承受高速运转。一般在3000RPM（这是由于设备的内部结构及精密程度决定的）。

IKN：可以通过变频调速，转速可达7890/13789RPM ，通过皮带加速 我们轴承可以承受14000RPM(转速，研磨的力度也是他们的4-5倍，这样研磨的细度更小)。

②三级结构：

虽然都是三级结构

普通设备：沟槽是直线，同级的沟槽深度一样。

IKN：沟槽是曲线，上下深度不一，上深下浅。

③磨头的结构

普通设备：斜齿的每个磨头的沟槽深度一样，流道体积是一样大。

IKN： 沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿流道的体积从上往下，从大到小。           

这样形成了本质的区别，我们可以物料从上往下一直在进行研磨，而他们只能在磨头到另外磨头形成研磨效果。

④大线速度（如磨头的相同直径）：

普通设备：大约在10-15m/s

IKN：可达到23-40m/s

⑤模块头：

普通设备：只有一种模块头。

IKN：可以选择六种不同的模块头，实现多种功能，如三级乳化模块，速模块，CM胶体模块，CMO胶体模块，批次粉液液混合模块，连续粉液混合模块。

⑥密封形式

普通设备：单机械密封或轴封，泄漏故障率高，产品泄漏进入马达，造成马达烧毁

IKN：双机械密封，易于清洗，将泄漏降至低，可24小时不停运转

⑦工作腔体方式

普通设备：卧式或立式（马达一体式），轴承部分受力较大，易于损坏，维护保养复杂，清洗苦难。

IKN：立式，皮带驱动，易于维护，可有效保护马达及齿轮箱，防止损坏符合流体流动原理，易于清洗。

⑧产品效果

普通设备：粒径细度有限，100微米以下较困难，重复性差。

IKN：间距可调，可实现1-10微米小粒径材料加工。

上海IKN新技术，特创意，融化新理念。将IKN高剪切胶体磨进行进一步的改良，在原来CM2000系列的基础上，将单一的胶体磨磨头模块，改良成两级模块，加入了分散盘（均质盘、乳化盘）。从而形成改良型的胶体磨，先研磨后分散（均质、乳化），将物料的处理一步到底的完成，我们将这种改良的胶体磨也称为“研磨分散机”、“研磨均质机”、“研磨乳化机”。

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